Современные требования к кремниевым пластинам большого диаметра

Современные требования к кремниевым пластинам большого диаметра
артикул: 14402432
118.00 руб.
Доставка из: Россия
   Описание
Приведены современные требования к геометрической точности изготовления пластин-подложек интегральных микросхем. Рассмотрены кремниевые подложки диаметром 150 и 200 мм, а также сапфировые подложки диаметром 100 мм. Описаны новые технологические операции, применяемые при производстве полупроводниковых пластин. Для студентов специальности «Проектирование и производство электронной аппаратуры» и «Проектирование и технология радиоэлектронных средств», изучающих курс «Микроэлектроника». Ил. 17. Табл. 8.
   Характеристики
age: 0
author: Н. В. Макушина
genres_list: 5311,5312,5682,5763,15135,102149,114736,115905,124043
ISBN: 5-7038-2926-7
lang: ru
publisher: МГТУ им. Н.Э. Баумана
Type: book
year: 2006
Форматы: PDF

Пользователи также просматривали